Article List (Total : 344)
Article Data
No Article Name Year
344 Effects of H2 addition in magnetized inductively coupled C2F6 plasma etching of silica aerogel film
2000
343 Fabrication of trench nanostructures for extreme ultraviolet lithography masks by atomic force microscope lithography
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
342 Electrical characteristics of buried-Pt Schottky contacts on thin InP/InAlAs heterostructures
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
341 Etch Damage of Ge2Sb2Te5 for Different Halogen Gases
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
340 Characteristics of hydrogenated silicon thin film deposited by RF-PECVD using He-SiH4 mixture
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
339 Fluorination of Aluminum Oxide Gate Dielectrics Using Fluorine Neutral/Ion Beams
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
338 Chemical and Electronic Properties of Ba/Bis(2-methyl-8-quinolinolato)(4-phenylphenolato)Aluminum(III) Interfaces for Organic Light-Emitting Diodes
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
337 Layer by Layer Etching of the Highly Oriented Pyrolythic Graphite by Using Atomic Layer Etching
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
336 Effect of Halogen-Based Neutral Beam on the Etching of Ge2Sb2Te5
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
335 Fabrication of ordered Au nanodot arrays utilizing anodic aluminum oxide templates formed on Si substrate
Edition: SCIE, SCOPUS
2011
Patent List (Total : 56)
Patent Data
No Patent Name
56 도핑된 풀러렌을 함유하는 유기 발광 소자, 및 이의 제조방법(ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE INCLUDING DOPED FULLERENE, AND PREPARING METHOD THEREOF)
55 다중 주파수의 RF 펄스 파워를 이용한 펄스 플라즈마의 특성 제어 방법(Characteristic controlling method of pulsed plasma using Multi-frequency RF pulsed power)
54 식각 방법(Etching method)
53 식각 방법(Etching method)
52 하이브리드 플라즈마 소스 및 이를 채용한 플라즈마 발생 장치(Hybrid plasma source and plasma generating apparatus using the same)
51 대기압 플라즈마를 이용한 기판의 이중 패터닝 방법(Dual Patterning Method for Substrate Using Atmospheric Pressure Plasma)
50 그라핀 시트를 포함하는 가요성 투명 전도층을 구비하는 유기 전자 소자 및 이의 제조 방법(Organic electronic device with flexible transparent conductor including graphene sheet and manufacturing method thereof)
49 원자층 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법(Atomic layer etching apparatus and etching method using the same)
48 그라핀을 이용하는 태양 전지 및 이의 제조 방법(solar cell using graphene and method of manufacturing the same)
47 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를채택하는 플라즈마 발생장치(Plasma sources having ferrite structures and plasma generating apparatus employing the same)